作为整个AI大潮的算力基础，英伟达的A100和H100 GPU（图形处理器）因为每个月的产量有限，这两款奇货可居，特别是旗舰级别的新款H100的售价在超过了4万美元，A100的售价也超过万元。

       在由ChatGPT推动的人工智能潮流中，GPU对于训练AI模型至关重要。微软已经投入数亿美元购买了数万颗A100芯片用于开发ChatGPT。马斯克也为推特购买了近万颗A100.

       前期我们看到英伟达因为美国出口管制的原因，向国内特别制作了根据H100设计了定在版本H800，作为中国“特供版”。

       国内部分云厂商已迅速跟进，使用英伟达新款GPU。4月14日，国内第四大云厂商腾讯也宣布推出新一代的高性能计算集群，该集群采用腾讯云自研服务器，搭载了英伟达最新的中国特供版GPU H800，服务器间的连接带宽高达3.2Tbps。腾讯称，该服务器集群算力性能较前代提高了3倍，将腾讯自研的“混元NLP大模型”训练时间由11天缩短至4天。

       并且据知情人士称，“H800出货较少，剩下客户新订的可能最快要到12月才能交付。”

       英伟达的A100是7纳米工艺，台积电代工，需要采用ASML的EUV（极紫光刻机）。

       光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要求越高，目前仅有少数公司（德国蔡司、日本佳能、尼康）具备光刻机超精密光学系统供应能力。

       伴随荷兰、日本、美国加大半导体设备出口限制，光刻机、光刻机光学零部件国产替代意义重大。我们估算中国光刻机光学部件市场达 5 亿美元，中国的‘蔡司’有迹可循。

       EUV 光刻机：EUV 光刻技术全称为紫外光刻（ExtremeUltravioletLithography），是目前半导体制造业中最先进的光刻技术之一，可以用于 10nm 以下的先进制程。光源方面，使用波长为 13.5nm 的极紫外光，即采用锗（Ge）和锡（Sn）混合的等离子体光源，产生高能量的光子来进行曝光。应用方面，EUV 光刻机主要用于制造 10 纳米及以下的高端芯片，是未来半导体制造业发展的重要方向之一，已经被 intel、三星、台积电、美光、SK 海力士等芯片制造厂商广泛应用。

       那么EVU光刻机最重要的极紫外光现在全球只有一家公司能够提供，就是美国西盟（Cymer)，国内要快速开发出我们自己的EUV光刻机，那么突破极紫外光刻不容缓，谁能担此重任，国家大基金二期是否应该大力扶持？中国的股市现在已经融入了全球经济之中，要知道我们大盘的走势，一定要即时了解全球经济动态，来看每日顶点财经冯剑峰直播，了解全球经济动态。

投资顾问：冯剑峰 （执业编号：A0380622060007）简介：

顶点财经首席投顾，有20年以上投资经验，独立开发《三维交易操作系统》，多次预判历史级别的上证指数高点和低点，为投资者所喜爱。现阶段每周一至周五在微信视频号：擒牛猎头 ，以直播、视频的形式持续和广大投资者分享对国内股市的专业见解。

免责声明：本文不构成个人投资建议。市场有风险，投资需谨慎，请独立判断和决策。

       作为整个AI大潮的算力基础，英伟达的A100和H100 GPU（图形处理器）因为每个月的产量有限，这两款奇货可居，特别是旗舰级别的新款H100的售价在超过了4万美元，A100的售价也超过万元。

       在由ChatGPT推动的人工智能潮流中，GPU对于训练AI模型至关重要。微软已经投入数亿美元购买了数万颗A100芯片用于开发ChatGPT。马斯克也为推特购买了近万颗A100.

       前期我们看到英伟达因为美国出口管制的原因，向国内特别制作了根据H100设计了定在版本H800，作为中国“特供版”。

       国内部分云厂商已迅速跟进，使用英伟达新款GPU。4月14日，国内第四大云厂商腾讯也宣布推出新一代的高性能计算集群，该集群采用腾讯云自研服务器，搭载了英伟达最新的中国特供版GPU H800，服务器间的连接带宽高达3.2Tbps。腾讯称，该服务器集群算力性能较前代提高了3倍，将腾讯自研的“混元NLP大模型”训练时间由11天缩短至4天。

       并且据知情人士称，“H800出货较少，剩下客户新订的可能最快要到12月才能交付。”

       英伟达的A100是7纳米工艺，台积电代工，需要采用ASML的EUV（极紫光刻机）。

       光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要求越高，目前仅有少数公司（德国蔡司、日本佳能、尼康）具备光刻机超精密光学系统供应能力。

       伴随荷兰、日本、美国加大半导体设备出口限制，光刻机、光刻机光学零部件国产替代意义重大。我们估算中国光刻机光学部件市场达 5 亿美元，中国的‘蔡司’有迹可循。

       EUV 光刻机：EUV 光刻技术全称为紫外光刻（ExtremeUltravioletLithography），是目前半导体制造业中最先进的光刻技术之一，可以用于 10nm 以下的先进制程。光源方面，使用波长为 13.5nm 的极紫外光，即采用锗（Ge）和锡（Sn）混合的等离子体光源，产生高能量的光子来进行曝光。应用方面，EUV 光刻机主要用于制造 10 纳米及以下的高端芯片，是未来半导体制造业发展的重要方向之一，已经被 intel、三星、台积电、美光、SK 海力士等芯片制造厂商广泛应用。

       那么EVU光刻机最重要的极紫外光现在全球只有一家公司能够提供，就是美国西盟（Cymer)，国内要快速开发出我们自己的EUV光刻机，那么突破极紫外光刻不容缓，谁能担此重任，国家大基金二期是否应该大力扶持？中国的股市现在已经融入了全球经济之中，要知道我们大盘的走势，一定要即时了解全球经济动态，来看每日顶点财经冯剑峰直播，了解全球经济动态。

投资顾问：冯剑峰 （执业编号：A0380622060007）简介：

顶点财经首席投顾，有20年以上投资经验，独立开发《三维交易操作系统》，多次预判历史级别的上证指数高点和低点，为投资者所喜爱。现阶段每周一至周五在微信视频号：擒牛猎头 ，以直播、视频的形式持续和广大投资者分享对国内股市的专业见解。

免责声明：本文不构成个人投资建议。市场有风险，投资需谨慎，请独立判断和决策。